荷兰智慧港是全球创新热点，ASML是全球最大的半导体芯片生产设备开发商和制造商。在未来几年，ASML将推出最新一代的EUV设备：High NA EUV光刻机。ASML正在与荷兰智慧港强大的高科技生态系统中的苏科思和福根机电合作，共同开发和制造关键而复杂的掩模遮光模块。
ASML光刻机的运作原理是：光刻机光源发出的光，通过设计好集成电路图形的掩模遮光模块，对涂有光刻胶的晶圆曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，使掩模遮光模块上的图形复印到光感材料上，从而让光感材料具有电路图的作用。 掩模遮光模块是投影光学系统运行中的重要部分，通过具有极高精度的、在水平方向上不断移动的四个金属刀片快门来遮挡那些不应该投射到晶圆表面的光线。在最新一代High NA EUV光刻机中，上述动作将以高达400m/s²的加速度完成，相比之下，火箭的加速度是每秒120m/s²。
新需求
“在位于维尔德霍芬的ASML，数千名开发人员共同致力于同一个目标：使我们的客户能够将更精密、复杂的集成电路图形应用到芯片上，以提高计算能力和内存容量，并降低能量消耗。”ASML 最新一代High NA EUV光刻机的开发与工程主管Menno Fien表示。“我们可以通过调整两个方面来实现：使用更短波长的光源和更大数值孔径的投影物镜。在我们的EUV光刻机中，我们使用13.5nm的极紫外光。这些设备在真空环境下运行，设备空间有限。因此，开发过程中对掩模遮光模块的要求也很有挑战性，例如在尺寸和系统集成方面。2024-2025年，最新一代High NA EUV光刻机将推向市场，由于采用了新的投影光学系统，它可以成像小于8nm的集成电路图形。”
宝贵的资产
ASML的卓越成绩，离不开智慧港的高科技生态系统。智慧港中有许多在开发和制造机电系统领域的高精尖技术公司，同时也是ASML可以依靠的一流的世界级合作伙伴。Fien感叹道：“我们的研发和生产一直在全速运转，而这样一个随时待发的强大支持系统，无疑让人激动不已。我们永远面临着市场需求在某一时刻的突飞猛涨，这也就意味着艰难的挑战。因此，合作也意味着风险分担和回报共享。保证ASML可持续、稳定、健康地发展的同时，供应链合作伙伴也从中受益。通过这种方式，我们可以让彼此变得越来越强大，然后真正发展起来。”
尖端技术
High NA EUV光刻机的研发再次提高了对掩模遮挡模块的标准要求：速度、精度和纯度。ASML正与苏科思联合迎接这一挑战。苏科思的欧洲市场总监Paul van den Avoort表示:“ 掩模遮光模块是物理极限下的尖端技术，但这挑战也让我们的工作变得很有趣。苏科思负责机械设计，与ASML一起完成子组件的功能模型，尽可能在研发最早阶段控制风险。同时还与合作伙伴密切合作，完成掩模遮光模块的构造、测试和验证的工作指令书。在这个过程中，团队合作是关键。”
没有硬切
福根机电在智慧港也十分活跃，并在过去十年中发展成为ASML的重要合作伙伴，重点发展复杂高端装备的生产制造。“我们将负责最新掩模遮光模块的生产和制造，” 福根机电法国欧洲技术与工程副总裁Marcel Slot说。“最终的成功，是离不开建立一个具有成本效益和高质量的生产制造和供应链。我们必须找到一个平衡点，选择总是要做的。单兵作战是不可取的，我们需要团结协作。经过五年的发展，我们已经成为行业前沿技术的第一梯队。”
最佳搭档
为什么ASML要与苏科思和福根机电合作开发和制造新一代掩模遮光模块？Fien强调：“在智慧港中,有着一流的机密机械和机电一体化专家可供选择。我们需要做的是挑选出最佳搭档。这个过程有助于了解彼此的特质，保证与ASML的战略和技术路线图一致。”“你也可以在新一代掩模遮光模块ReMa项目中看到这一点，”Slot说。“我们是强大的铁三角，感觉就像彼此的同事一样一起工作。”Van den Avoort同意他的观点。“这次的的项目十分复杂压力和风险都是巨大的没有退路，只有成功。我们也相信，相互的监督和支持，必将一起取得胜利!”
